以下哪項(xiàng)不是基托作緩沖的目的（ ）

A、防止壓痛

B、防止有礙發(fā)音

C、防止壓迫齦組織

D、防止壓傷膜組織

E、防止基托翹動(dòng)

技師對(duì)無牙頜模型的某些區(qū)域用石膏填補(bǔ)倒凹，其目的主要為 ( )

A、節(jié)省基托材料

B、節(jié)省時(shí)間

C、增加義齒固位

D、消除基托對(duì)此區(qū)域的壓迫

E、增加模型的美觀與光潔

鐘狀期牙胚出現(xiàn)的臨時(shí)性結(jié)構(gòu)為

A、內(nèi)釉上皮

B、外釉上皮

C、星網(wǎng)狀層

D、牙乳頭

E、釉結(jié)

有兩個(gè)方向彎曲的卡環(huán)臂，其三段在基牙上的正確位置是 ( )

A、近體段和臂端段在導(dǎo)線下1～2mm

B、弧形中段在導(dǎo)線下0.5～1mm

C、近體段和臂端段在導(dǎo)線下0.5～1mm，弧形中段在導(dǎo)線下1～2mm，臂端段繞過軸面角到達(dá)鄰面

D、卡環(huán)的末端向齦方向延伸，進(jìn)入楔狀隙

E、卡環(huán)的末端頂在鄰牙上，以不妨礙咬合為宜

鐘狀期成釉器時(shí)細(xì)胞分化為4層，從內(nèi)向外排列順序?yàn)椋?）

A、內(nèi)釉上皮→星網(wǎng)狀層→中間層→外釉上皮

B、內(nèi)釉上皮→星網(wǎng)狀層→外釉上皮→中間層

C、內(nèi)釉上皮→中間層→星網(wǎng)狀層→外釉上皮

D、內(nèi)釉上皮→外釉上皮→中間層→星網(wǎng)狀層

E、星網(wǎng)狀層→內(nèi)釉上皮→外釉上皮→中間層

人造冠完全就位的理論標(biāo)志是戴入患牙的人造冠內(nèi)表面與患牙面的間隙不大于（ ）

A、20μm

B、30μm

C、60μm

D、40μm

E、50μm

固定義齒戴牙以后基牙疼痛，原因不可能是 ( )

A、基牙和鄰牙接觸太緊

B、咬合力太大

C、固位體邊緣設(shè)計(jì)為90°肩臺(tái)

D、基牙支持力不足

E、底層冠和基牙不密合

用硅橡膠類印模材料取?？赡芤鹈撃５脑蚴?/p>

A、托盤選擇不合適

B、未使用托盤粘結(jié)劑

C、脫模時(shí)用力過大

D、印模材在口內(nèi)停留時(shí)間不夠

E、以上均是

下塑料人工牙7654，通過鋼絲捆綁固定在右下83。左下45678固定烤瓷橋修復(fù)體，義齒穩(wěn)固。雙側(cè)基牙牙齦紅腫，口內(nèi)有臭味。按Kennedy分類法，該牙列屬于A、KennedyⅠ類缺失

B、KennedyⅢ類缺失

C、KennedyⅡ類Ⅰ亞類缺失

D、KennedyⅢ類Ⅰ亞類缺失

E、以上都不對(duì)

右下83及左下458應(yīng)做出的處理是A、潔治基牙

B、囑患者飯后漱口

C、拆除修復(fù)體

D、口服消炎藥

E、調(diào)磨咬合高點(diǎn)

該患者出現(xiàn)牙齒、牙齦疼痛無法咀嚼的原因是A、設(shè)計(jì)錯(cuò)誤

B、初戴義齒不適應(yīng)

C、患者黏膜薄弱

D、義齒制作有問題

E、義齒使用不當(dāng)

上述情況，應(yīng)采用的設(shè)計(jì)是A、雙側(cè)固定義齒修復(fù)

B、右側(cè)可摘局部義齒，左側(cè)固定義齒設(shè)計(jì)

C、雙側(cè)可摘局部義齒設(shè)計(jì)

D、左側(cè)可摘局部義齒，右側(cè)固定義齒設(shè)計(jì)

E、單側(cè)可摘局部義齒設(shè)計(jì)

覆蓋義齒中附著體的作用為

A、支持作用

B、固位作用

C、穩(wěn)定作用

D、緩沖作用

E、以上都是